【新闻导读】三星计划大量引进韩国企业SEMES的蚀刻设备，该设备原先主要由日本半导体设备大厂东京威力科创(TEL)提供。韩国业界期待，韩国半导体设备能提升前段制程中的使用比重。
韩国媒体报道指出，明年上半年，三星电子计划在中国西安第2工厂中增加SEMES的设备比重。西安工厂是三星电子唯一设厂在海外的存储器半导体生产基地。去年3月起，三星电子开始在该地设厂，预定明年上半年启动，未来该工厂主要将生产5代V-NAND闪存与100层以上的高端产品。
三星电子为将SEMES的蚀刻设备应用于5代NAND制程，正在进行最后阶段产品测试。第5代NAND闪存是去年三星电子首次量产的产品，该产品制程也是首次使用SEMES蚀刻设备。
韩国科技媒体报道指出，虽然三星电子也曾使用过SEMES的蚀刻设备，但此次投入的SEMES蚀刻设备规模非常大，加上可能会威胁到东京威力科创，引发外界关注。
蚀刻制程是制造半导体相当重要的环节之一，能够让线路成型，也能清洁芯片，需要高技术性的设备。目前三星电子、SK海力士等韩国半导体企业拥有国际等级的记忆体技术，但背后的制造设备几乎仰赖海外企业，因此许多韩国专家们赞赏韩国设备技术国产化的进展。
不少人期待，在新一代存储器制程中，三星电子能增加使用国产设备的比例。但目前业界普遍认为，此案例也侧面印证韩国设备技术已经赶上国外企业的技术水平。
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